Nicomp 380系列仪器的主要优点是其高分辨率,其可以辨析出非常接近的两个粒径分布基团,甚至可以从主峰中剔除少数粒子带来的杂质峰,这些都归功于其算法是一种高分辨率多峰去卷积算法。
在研究和分析纳米级颗粒材料以及确定胶体稳定性方面,高分辨率的特性显得尤为重要。
下面是应用Nicomp380系列仪器可以轻松辨析复杂体系进行研究的两个案例:
案例一 NICOMP 380纳米粒径分析仪的多峰分布实例
上图所示是由30%的220 nm和70% 的340nm标准乳液混合在一起所测得的数据。根据高斯算法得到的一个假正态分布粒径结果—其给出一个峰值在288nm处的单峰模型。
解决方案:
Nicomp 380DLS正确地检测出了两个分布峰,分别位于230nm和345nm处,体积分布显示230 nm的标准乳胶约占38%,345 nm标准乳胶约占62%。请注意:Nicomp 380也指出了此样品存在较高的Chi Square(卡方值),当卡方值较大时,使用高斯分析法分析该样品是不合适的。
案例二 NICOMP 380纳米粒径分析应用于样品稳定性的分析研究
温度和其他变量可以直接影响粒度分析的结果。可惜的是市场上大多数纳米粒度检测仪器缺乏相应的技术手段来对样品进行高分辨率辨析及实时监测这些变化。他们一般只能给出一个很宽的单峰分布模型,表明此样品的成分比较复杂。
解决方案
的Nicomp分析方法可以监测随着时间的推移样品粒度分布的细微变化趋势。通过监测粒径分布的变化和增益现象可以帮助研究人员敏锐地洞察出样品的特性和稳定情况。
开始条件:某胶体在常温条件(26℃)下测试结果如图,当温度上升到(40℃),胶体自身将会发生降解,粒度降低到100 nm以下。
上图所示,当仪器的控温系统用了12分钟,将该胶体样品升到 40℃,如预期判断的,峰值开始变小,Nicomp分析方法得到了两个峰,一个100 nm主峰,需要注意的是仍然有一小部分在原来的位置329 nm处,这和原始样品的峰值一样。
当仪器控温系统升温到40℃,继续保温15分钟后,*个峰值继续变小,同时Nicomp分析法也看出第二个峰值也变小。